水處理設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，它利用模塊兩端電極使水中的帶電離子移動(dòng)，并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜，以加速離子移動(dòng)去除，進(jìn)而達(dá)到水的純化，產(chǎn)水電阻率可達(dá)到15–18M，而離子交換樹(shù)脂再生所需的氫根及氫氧跟則來(lái)自于高壓電下，由水中的解離所供給，這樣是無(wú)需用酸、堿來(lái)進(jìn)行再生還原。
水處理設(shè)備的原理是利用綜合電波改變水里的鈣、鎂等離子的物理結(jié)構(gòu)，變成不溶于水的新結(jié)晶體，它們會(huì)懸浮于水里，不會(huì)粘附于管壁上，防止水垢形成，由于鈣鎂等離子從水中析出，水便回復(fù)于高溶解狀態(tài)，(水本身為高溶解度液體，但會(huì)因吸收其它物質(zhì)而致飽和)，當(dāng)回復(fù)為高溶解狀態(tài)的水流經(jīng)有水垢的管道，便能把水垢溶解并吸收，并于排水時(shí)排走，因此，該產(chǎn)品除具有防止水垢形成外，還能有效去除老垢。處理器內(nèi)的微控制器會(huì)自動(dòng)監(jiān)視水流速率、水質(zhì)和濃等變化，因應(yīng)情況釋放正確的訊號(hào)電波，自動(dòng)干擾分子能量技術(shù)，控制CaCO3微晶基質(zhì)的物理結(jié)構(gòu)，造成 CaCO3 結(jié)晶體的霰石形式趨勢(shì)。

水處理設(shè)備的工作原理是什么：
當(dāng)水流經(jīng)高壓、高頻電磁場(chǎng)時(shí)，水中的重碳酸鹽中的鈣、鎂離子和各重碳酸根離子會(huì)在高壓、高頻電磁場(chǎng)的作用下，失去化學(xué)性、物理性和相互吸引的能力，逐漸形成晶體團(tuán)沉入底部，隨排污排出，從而達(dá)到防垢的目的。

水處理設(shè)備的安裝標(biāo)準(zhǔn)：
1、設(shè)備安裝場(chǎng)地應(yīng)當(dāng)選擇在平整，環(huán)境整潔，緊靠電源、水源的環(huán)境當(dāng)中；
2、請(qǐng)勿靠近火源及任何發(fā)熱體，以避免受熱影響其運(yùn)行的效率；
3、在北方地區(qū)不得將設(shè)備安裝在室外，以防設(shè)備內(nèi)部?jī)鼋Y(jié)，損壞儀表及過(guò)濾元件；
4、設(shè)備安裝位置應(yīng)能方便排水，使設(shè)備的排水管保持順暢；
5、系統(tǒng)所用的水泵工作壓力確保在1.0-1.2Mpa，確保水泵在其額定揚(yáng)程范圍內(nèi)工作。

水處理設(shè)備安裝位置的選擇要點(diǎn)：
1、水處理設(shè)備應(yīng)盡可能靠近排水處；
2、如果需要其它水處理設(shè)備，應(yīng)該預(yù)留安裝位置；
3、由于經(jīng)常性向鹽箱中加鹽，應(yīng)設(shè)置放鹽的位置；
4、不要將水處理設(shè)備安裝于離鍋爐3米以內(nèi)的地方，否則熱水會(huì)回流至軟化水設(shè)備中，造成損壞；
5、要將水處理設(shè)備置于室溫低于1°C和高于49°C的環(huán)境中。
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